Überblick
Der Erfolg der Optischen Technologien wird entscheidend von der Qualität und Funktionalität der optischen Komponenten, speziell deren Oberflächen, geprägt. Hier haben sich Prozessplasmen als unverzichtbares Hilfsmittel für die Herstellung funktionaler Schichtsysteme und strukturmodifizierter optischer Oberflächen erwiesen. Die Entwicklung und Optimierung der Prozesse wird jedoch bisher weitgehend durch empirische Ansätze bestimmt und ist daher in vielen Bereichen noch nicht abgeschlossen. Obgleich die technologische und wirtschaftliche Relevanz der plasmaunterstützten Prozesse extrem hoch ist, existiert bisher kein detailliertes Verständnis der physikalischen und chemischen Wechselwirkungsmechanismen, im Besonderen während des Ionenstrahlabtrags und der Schichtbildung, in Abhängigkeit der vorherrschenden Plasmaparameter.
Parallel dazu existiert in den rein plasmabasierten Fertigungsbereichen und den nationalen Forschungseinrichtungen eine weitreichende Expertise bezüglich der Charakterisierung, der Qualifizierung und der numerischen Modellierung von Niedertemperaturplasmen.
Die Zielstellung des BMBF-Projekts PluTO: „Plasma und Optische Technologien“ ist es daher, beide Technologiebereiche zusammenzuführen. Dementsprechend setzt sich das Konsortium sowohl aus Experten der optischen Beschichtungstechnologie als auch der Plasmatechnik zusammen. Die verfügbaren Prozessplasmen, speziell die Randschichten, sollen mithilfe spezieller Sonden eingehend qualifiziert werden, so dass die Art, die Anzahl und die Energie der an den Schichtbildungsprozessen beteiligten Teilchen erstmals eingehend und umfassend bestimmt werden können. Die somit gewonnenen Daten sollen die Grundlage einer numerischen Modellierung bilden, die ihrerseits in einem iterativen Prozess experimentell verifiziert werden soll. Somit stehen letztendlich zwei Säulen der Prozessgestaltung zur Verfügung. Einerseits können die fundamentalen Wirkungszusammenhänge identifiziert werden, so dass maßgeschneiderte Prozessumgebungen ermöglicht werden. Andererseits werden geeignete Monitorierungswerkzeuge zur Prozessüberwachung identifiziert.
Das Projekt PluTO wird durch das Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) gefördert.
Projektträger:
Projektlaufzeit:
01.05.2009 - 30.04.2012
Koordinator:
Fraunhofer
Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF
Albert-Einstein-Str. 7
07745 Jena
Ansprechpartner: